半导体制造过程对设备运行稳定性、洁净度和可靠性有着极其严苛的要求。从晶圆制造到先进封装，设备中的润滑失效、油脂挥发以及颗粒物释放，都可能对工艺良率和生产效率产生影响。作为成立于1929年的特种润滑剂企业，克鲁勃在半导体行业发展初期便与众多设备制造商建立合作关系，并持续积累丰富的应用经验。凭借近百年的摩擦学技术沉淀以及对半导体工艺需求的深刻理解，克鲁勃长期服务于全球及中国重要半导体设备供应链，为客户提供稳定可靠的润滑解决方案。
2026年8月31日至9月2日，第十四届半导体设备材料及核心部件展（CSEAC 2026）在无锡太湖国际博览中心成功举办。作为全球特种润滑领域专家，克鲁勃润滑剂携多项创新产品及半导体行业解决方案亮相展会，与来自晶圆制造、半导体设备、核心零部件及材料领域的专业观众展开深入交流，共同探讨先进制程背景下设备可靠性、洁净度管理及可持续运营的发展方向。展会期间，克鲁勃重点展示了面向高真空、洁净室及极端工况应用的润滑技术成果，以及覆盖半导体制造全流程的专业润滑解决方案，吸引了众多行业客户和合作伙伴关注。
半导体制造过程对设备运行稳定性、洁净度和可靠性有着极其严苛的要求。从晶圆制造到先进封装，设备中的润滑失效、油脂挥发以及颗粒物释放，都可能对工艺良率和生产效率产生影响。作为成立于1929年的特种润滑剂企业，克鲁勃在半导体行业发展初期便与众多设备制造商建立合作关系，并持续积累丰富的应用经验。凭借近百年的摩擦学技术沉淀以及对半导体工艺需求的深刻理解，克鲁勃长期服务于全球及中国重要半导体设备供应链，为客户提供稳定可靠的润滑解决方案。
本届展会上，克鲁勃重点展示了覆盖半导体制造全工艺流程的润滑解决方案。从拉晶设备、晶圆切割、薄膜沉积、光刻、干法刻蚀、离子注入、CMP抛光，到晶圆检测、晶圆传输机器人以及真空干泵等关键设备，克鲁勃均可提供针对性的润滑产品和技术支持，实现对轴承、直线导轨、滚珠丝杠、齿轮、阀门及密封件等关键部位的全面覆盖。凭借丰富的产品组合和长期积累的行业经验，克鲁勃能够帮助客户在高真空、强腐蚀、高洁净度等严苛工况下提升设备可靠性，降低非计划停机风险，保障生产连续性和工艺稳定性。
针对当前半导体行业对真空系统可靠性的更高要求，克鲁勃此次重点展示了两款面向真空干泵应用的新产品。
采用高性能全氟聚醚基础油及专利抗磨技术，可显著提升真空干泵内部轴承和齿轮的耐磨性能与运行可靠性
则具备优异的化学稳定性、耐腐蚀性和高温稳定性，即使在强酸、强碱及腐蚀性气体环境下，仍能够保持稳定性能，为先进制程设备提供长效保护
除专业润滑产品外，克鲁勃还联合兄弟公司恩福，共同展示了“Lube & Seal（润滑+密封）”整体解决方案理念。传统上，润滑和密封通常被视为两个独立领域，但在半导体设备实际运行过程中，许多问题往往同时涉及润滑状态与密封性能。仅优化润滑剂可能无法彻底解决泄漏风险，而单独改善密封设计也可能无法避免摩擦磨损问题。
基于这一理念，克鲁勃与恩福依托科德宝集团的协同优势，从润滑材料、密封方案到设备可靠性管理进行一体化优化，为客户提供更加完整的系统解决方案，帮助设备制造商和终端用户降低运营风险、提升设备寿命并优化综合运营效率。
如需进一步了解克鲁勃润滑剂的产品、服务或应用解决方案，欢迎提交您的咨询。我们的专业团队将尽快与您联系并提供支持。
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